中国光刻机技术和ASML的差距有多大?至少10年以上 - 区块网

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中国光刻机技术和ASML的差距有多大?至少10年以上

众所周知,这几天大家又为中芯国际以及中国高端芯片制造担忧起来了,原因是中国芯国际向ASML采购的一台极紫外光刻机,可能生变了。因为ASML已向荷兰当局申请出口许可4个月了,一直没有得到许可,导致ASML无法按时交货。

而这台极紫外光刻机是中国唯一一台极紫外光刻机,也是制造高端芯片必不可少的设备,目前只有ASML能够生产。

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广东快乐十分于是有人问,目前中国刻蚀机能够生产出5nm的来了,那么国产光刻机的技术究竟在什么水平,和ASML相比,还差多少,能不能短时间内追上来,从而不再依赖ASML?

实话实说,中国目前的光刻机技术要和ASML相比的话,至少有10年以上的差距,短时间内是追不上的,所以还是想办法把这台极紫外光刻机赶紧拉回来才是正事,国产短时间内是没戏的。

广东快乐十分我们知道在光刻机领域,有人根本ASML的技术并结合芯片制造,分为四个档次,分别是超高端,高端,中端,低档。

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分别对应的节点分别5/7nm工艺、7-28nm工艺、28-65nm工艺,65-90nm工艺。目前ASML的产品覆盖所有档次,而nikon的产品停留在28nm这个节点,cannon和smee(上海微电子)停留在90nm这个节点。

意思就是中国的最高技术是90nm,生产出来的光刻机处于低端,只能生产90nm的芯片,而在90nm之后,还有65nm,45nm,32nm,22nm,14nm,10nm,7nm,5nm。

广东快乐十分而这些节点技术,有好几个台阶要上,首先是45nm的以阶,再到22nm的台阶,再到10nm台阶,再到7nm的台阶,真的是一步一个坎,有些坎几年都未必能够更新出一代来。

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所以说,从目前的这个情况来看,国产光刻机技术落后ASML至少是10年以上,甚至说10年都算是少的了,可以说是万里长征才开始第一步。

当然了,正如大家所想,再难也得研发,否则就会被人卡脖子,目前这台极紫外光刻机不就是如此么?用于生产5/7/8nm芯片的,是中芯国际用于下一代技术研发的,现在被卡了,可能会给中国高端芯片制造拖后腿了。